汎銓今年4月獲准進駐南科，不到半年便完成分公司設立，初期斥資2億元以上，採購最新型的雙束型聚焦離子束顯微鏡（dual beam fib）和穿透式電子顯微鏡（tem），以先進製程材料分析就近服務南科大廠。

14年前，柳紀綸、廖永順極力爭取技術長陳榮欽加入經營團隊共同創立汎銓科技，為科技業三顧茅蘆的佳話。當時半導體技術才在28奈米階段，汎銓看出材料分析技術的重要性及發展前景，積極研發先進的技術與服務，卡位產業供應鏈，如今成為半導體板塊的要角。

ic為產業之米，半導體業更被喻為國家強盛的命脈，突顯其重要性。汎銓因應先進製程快速推進，透過多樣化、創新的材料分析技術，協助客戶解決各種棘手的高難度案件，成為業界翹楚。著眼於台灣半導體產業蓬勃興盛，中國大陸也傾全力發展，帶來無限商機。接著將啟動上海及南京子公司，以完整的兩岸布局，全面擴展市場。

智慧裝置、3c電子日趨普及，功能和效能也更為精進，加上ai、車用電子及互聯網興起，席捲全球高科技產業，均為半導體產業帶來新商機。過去汎銓新竹營運總部受限於產能追不上訂單，經常被迫婉拒部分訂單，如今南科營運據點擴充、產能陸續開出，自高階到中低階可提供全面分析服務，大幅拉升市占率及營業規模。

法人表示，從汎銓在經營上多面向的擴張發展觀察，可看出這家半導體界的隱形冠軍企業，將逐漸一改過去的低調，轉為檯面上光芒四射、散發耀眼熱力的新星。

汎銓稱霸業界 5奈米tem試片製備能力

微縮技術不斷演進，tem試片製備厚度是tem分析能力的重要指標，汎銓的超薄5奈米tem試片製備能力，居同業之冠。

技術長陳榮欽博士表示，材料分析產業只要有錢、願意投資，引入先進儀器並不難，但單憑設備並無法建立絕對的競爭力；他強調，好的分析設備須配合優異的試片製備技術以及精準的資料判讀能力，這是分析品質的關鍵。

以如何使低介電材料（low-k），不因電子束的照射導致縮小、變形為例，一般分析業者不外乎減少電子束照射能量與提升樣品強度兩樣方式，而汎銓研發團隊擁有獨步全球的技術，製備低介質材料樣品的收縮比例達到業界最好；此外，較軟的材質「光阻」也是業界在分析上相當棘手的材料，特別在最先進的半導體技術上。半導體製程進到7奈米之後，極紫外光（euv）光刻微影是關鍵技術，但曝光光阻可能產生的缺陷是需要克服的問題，汎銓領先世界發展的檢測光阻缺陷技術，能在不損傷光阻材料情況下製備出完整樣品，以便於分析曝光缺陷和製程問題，協助半導體廠改良製程。

有鑑於全球積極發展半導體技術，大廠間的角力競爭與窺探，輕則影響到公司的興衰，重則可能動搖國本。柳紀綸表示，對半導體設計、製造商而言，晶片布局（layout）、使用材料等數據為製程命脈，需要長期留存，絕對不能外洩。汎銓認為，工程技術能力超群固然重要，資訊安全更是重要的環節。

為妥善保全客戶的資料，汎銓特別增設資訊長職務以及營運保全處（bosd），並規畫滴水不漏的資安流程，嚴格執行，獲得重要客戶認同。汎銓實驗室無論客戶或員工，甚至汎銓董事長、總經理及副總等一線主管，進出實驗室均需檢查背包物品，相機、筆電及手機鏡頭貼上保密貼。實驗室內多數區域列為嚴管禁地，只有被授權人員才能進出。<摘錄經濟>